3．1 辦公區

    應在每個(gè)樓層集中設置，便于學(xué)習和探討工作中出現的問(wèn)題，民用配電即可。

3．2 報告編制區

    用于檢測結果的輸入、檢測報告的編制及審核，滿(mǎn)足辦公用電需求即可。

3．3 收樣及樣品儲存區該區域必須干燥、通風(fēng)、防塵。樣品分為待檢、在檢、已檢3類(lèi)，各存儲柜應標明收樣及檢測日期。

3．4 樣品處理區和化學(xué)濕法分析區

    樣品處理區域在實(shí)驗過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生大量的有毒有害、有刺激氣味的氣體，故必須有獨立排風(fēng)設施通風(fēng)柜；一般為單獨的房間，地面應有地漏；墻面、地板、實(shí)驗臺和試劑柜等要絕緣、耐熱、耐酸堿和耐有機溶劑腐蝕；放置中央實(shí)驗臺的實(shí)驗室應預設供實(shí)驗臺用的上下水裝置和足夠的電源插座。鑒于化學(xué)分析需要用到大量的強腐蝕性藥品，建議通風(fēng)柜內部特殊定制耐500℃高溫且耐酸堿的陶瓷內襯及耐腐蝕的PP內襯。

3．5 儀器分析區

    該區域主要設備一般有等離子體質(zhì)譜、發(fā)射光譜、碳硫氧氮氫分析、X光譜、原子吸收、氣相液相色譜、極譜、原子熒光、電鏡、wanneng試驗機等設備及配套穩壓電源和水循環(huán)系統。各類(lèi)儀器設備具有精度高、運行條件苛刻、耗材昂貴、部件損壞維修難度大、維修費用高等特點(diǎn)，決定了該區域應為單獨房間且空間不宜過(guò)小，盡量鋪設防靜電地板，互有干擾的儀器不能放在同一房間。該區域要求一定的潔凈度（可設置緩沖間）、溫濕度（溫度18～25℃，相對濕度60%～80%）、防震防輻射、獨立用電、獨立接地（電阻不大于1 Ω）等。設備放置距離墻體60～80 cm，以便維修檢查。根據設備的不同安裝要求，應考慮預留設備的排風(fēng)管道。對于光譜類(lèi)儀器，還應避免直射陽(yáng)光。

3．6 稱(chēng)量區

      稱(chēng)量區應為獨立的房間，用于放置精密分析天平，應距離樓道墻面較遠，并有雙層玻璃或窗簾，防塵防震［3］，在土建方面也應考慮防潮及保溫措施，宜設恒溫恒濕系統。建議為化學(xué)分析實(shí)驗室配置臺面厚度為40 cm的大理石天平臺，以達到三級減震的效果,天平臺須離開(kāi)墻壁至少1 cm放置。

3．7 高溫及微波消解區

      單獨的房間，主要用來(lái)擺放干燥箱、高溫爐，應有足夠的電功率。有些高溫爐如化學(xué)實(shí)驗室的大型干燥箱體積超高或超寬，需注意預留排風(fēng)罩的尺寸和高度?？稍谠搮^域預留兩個(gè)排風(fēng)口，用于安裝通風(fēng)柜，并放置需排風(fēng)的微波消解儀、酸提純器等小型儀器。

3．8 試劑儲藏區

      可根據實(shí)際情況安排藥品柜，應預留排風(fēng)口以放置帶抽風(fēng)試劑柜（保存揮發(fā)性藥品）；對于有一定危險性的藥品應設置單獨的危險品存儲柜。

3．9 晶間腐蝕區

      基本同樣品處理區，該區域要預留足夠數量的上下水管路和排風(fēng)管道。

3．10 金相顯微鏡區

      屬于金相檢驗范疇，在建筑設計中除考慮防塵、防振外，還需考慮防電磁輻射設計，室內應預留滿(mǎn)足設備要求的電源。

3．11 沖擊、拉伸和硬度檢測區

       屬于力學(xué)性能實(shí)驗范疇，包括常規性能測試（拉伸、壓縮、彎曲、硬度、落錘、沖擊等）、斷裂韌性、高溫松弛、熱疲勞試驗等。該區對通風(fēng)排風(fēng)無(wú)要求，可在高溫拉伸試驗機旁邊設置一組上下水管路，便于為剛剛檢測完的試樣冷卻降溫。

      該區域需估算設備用電功率并考慮安全系數，預留設備電源，保持清潔、干燥、無(wú)振動(dòng)且溫度均勻，在設備安放點(diǎn)的周?chē)鷳舫鲎銐虻目臻g，以便于進(jìn)行試驗與維修。制作設備預留基礎工程時(shí)按照相應安裝地基圖施工，設備的主機應安裝在混凝土的地基上，一般設備應用地腳螺栓調整儀器水平使用，待基礎干燥后（約15 d），再進(jìn)一步安裝設備。

3．12 實(shí)驗用水制備區

      該區工作臺面應堅固耐熱，配備能滿(mǎn)足制水設備功率要求的電源線(xiàn)路；供水水龍頭應有隔渣網(wǎng)。制水環(huán)境應盡可能避免污染，制備超純水應該達到一定的潔凈度。

3．13 氣體存放區

      該區樓板承重應大于300 kg／m2，預留排風(fēng)口，用于接駁可燃性或危險氣體氣瓶柜。

3．14 預留實(shí)驗區

      該區域為實(shí)驗室發(fā)展預留的空間，應在保持清潔的基礎上，將上下水和電源容量留足并在地面預定位置留有地漏即可。