M4型全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術(shù)，全數字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結合，運用高分辯率CMOS檢測器，精密設計的氬氣吹掃系統，使儀器具有較高的性能、較低的成本以及極具競爭力的價(jià)格。

應用領(lǐng)域：

鋼鐵行業(yè)、有色金屬、合金鑄造、機械加工、商檢質(zhì)檢、材料研究

檢測基體：

多基體

主要技術(shù)參數：

技術(shù)特點(diǎn)：

M4應用于多基體的、高性能的全譜直讀光譜儀

01 優(yōu)異的分析性能、非常緊湊的儀器結構

02 用于多種基體、多種材料的分析，分析范圍覆蓋了幾乎所有的重要元素，可以滿(mǎn)足絕大多數現代鑄造業(yè)的應用需求。

03 高亮度全息光柵具備3600條/mm刻線(xiàn)，使得分光系統具有高的分辨率。

04 氬氣吹掃光室配置了優(yōu)化設計的低流速吹氬系統，既保證低的使用成本又保證紫外區的透過(guò)率。

05 應用高分辯率多CMOS讀出系統，較低的暗電流、較好的檢出限、較高的穩定性、較強的靈敏度。

06 全數字化的智能復合光源DDD技術(shù)，充分滿(mǎn)足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。

07 一體式開(kāi)放火花臺，可以滿(mǎn)足各種不同樣品結構的分析。

08 配置多條工廠(chǎng)校正曲線(xiàn)及更多的材料分析方法和先進(jìn)的解決方案。

09 可根據用戶(hù)的材料要求，延長(cháng)標準曲線(xiàn)的測量上、下限。
精密設計的氬氣吹掃系統

光室密封性強，可保持內部氬氣長(cháng)期純凈。

光室空間優(yōu)化設計，降低氬氣消耗，有效節約產(chǎn)生成本。

低氬氣吹掃系統，確保光室UV波段測量環(huán)境。

光室充氬免除復雜的真空系統。
高分辯率CMOS檢測器實(shí)現全譜分析

譜線(xiàn)覆蓋了所有的重要元素，滿(mǎn)足所有基體和材料的分析。

高靈敏的紫外區檢測，對N的分析檢測更準確。

可有效選擇元素靈敏線(xiàn)，保證分析的準確度。

多峰擬合技術(shù)，有效消除譜線(xiàn)干擾，實(shí)現精準測量。
分析軟件功能強大

1)基于Windows系統的多國語(yǔ)言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實(shí)用；

2)全方位管理的控制整個(gè)測量過(guò)程及為用戶(hù)提供強大的數據處理能力和測試報告輸出能力；

3)儀器可配置多條工廠(chǎng)校正曲線(xiàn)及更多材質(zhì)分析及先進(jìn)解決方案；

4)軟件實(shí)現全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；

5)完備的自動(dòng)系統診斷功能；

6)完善的數據庫管理功能，可方便查詢(xún)、匯總數據；

7)智能校正算法，保證儀器穩定可靠；

8)完備的譜線(xiàn)信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準；

9)適應Windows操作系統。