單價(jià): | 350000.00元/臺 |
發(fā)貨期限: | 自買(mǎi)家付款之日起 天內發(fā)貨 |
所在地: | 廣東 深圳 |
有效期至: | 長(cháng)期有效 |
發(fā)布時(shí)間: | 2023-12-15 10:40 |
最后更新: | 2023-12-15 10:40 |
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全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機有著(zhù)極高的制程環(huán)境控制能力與微粒去除能力,市場(chǎng)份額相對小。
一般采取旋轉噴淋的方式,用化學(xué)噴霧對單晶圓進(jìn)行清洗的設備,相對自動(dòng) 清洗臺清洗效率較低,產(chǎn)能較低,但有著(zhù)極高的制程環(huán)境控制能力與微粒去除能力。
全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機可用于多種工藝中,包括擴散前清洗、柵極氧化前清洗、外延前清洗、CVD 前清洗、氧化前清洗、光刻膠清除、多晶硅清除等多個(gè)清洗環(huán)節和部分刻蝕環(huán)節中。
還有另一種單晶圓清洗設備采取超聲波清洗方式,市場(chǎng)份額相對小
全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機在應用環(huán)節上沒(méi)有較大差異,兩者的主要區別在于清洗方式和精度上的要求。
簡(jiǎn)單而言,單晶圓清洗設備是逐片清洗,自動(dòng)清洗臺是多片同時(shí)清 洗,所以自動(dòng)清洗臺的優(yōu)勢在于設備成熟、產(chǎn)能較高,而單全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機的優(yōu)勢在于清洗精度高,背面、斜面及邊緣都能得到有效的清洗,同時(shí)避免了晶圓片之間的交叉污染。
洗刷器在晶圓拋光后清洗中占有重要地位。
全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機采取旋轉噴淋的方式,但配合機械擦拭,有高壓和軟噴霧等多種可調節模式,用于適合以去離子水清洗的工藝中,包括鋸晶圓、晶 圓磨薄、晶圓拋光、研磨、CVD 等環(huán)節中,尤其是在晶圓拋光后清洗中占有重要地位。
在晶圓的加工中,需要對晶圓進(jìn)行化學(xué)機械拋光處理,拋光處理后的晶圓需要進(jìn)行清洗作業(yè)。在晶圓的清洗工序中,往往是需要對晶圓進(jìn)行固定,再進(jìn)行清洗。由于晶圓的特殊性,對晶圓進(jìn)行夾持會(huì )損壞晶圓表面;而且將晶圓進(jìn)行固定,清洗效果并不好,為此我們發(fā)明了一種晶圓清洗機。
全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機特點(diǎn):
晶圓*大 300mm PVA
雙面清洗雙面刷洗
PVA雙面刷洗
全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機支持4路化學(xué)液清洗,包括氨水與SCI
工作臺含驅動(dòng)組件,用于晶圓低速旋轉(50-100 rpm)
化學(xué)清洗臂含 4 路化學(xué)液
去離子水和稀釋氨分配的水坑噴嘴
全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機去離子水的 BSR(背面沖洗)噴嘴
帶有流通孔的工藝室
標配三種不同化學(xué)品供應系統
工藝室外的手動(dòng)去離子水槍。
全自動(dòng)晶圓拋光后清洗機化學(xué)液可加熱,*高可達 60°C(*高85°C )
外部可更換化學(xué)液
支持兆聲清洗
支持高壓等離子水沖洗